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刻蚀机是一种用于制造微纳结构或图案的设备，其工作原理是通过物理或化学方法去除不需要的材料，关于刻蚀机是否需要光刻胶的问题，这取决于具体的刻蚀技术和工艺。
在光刻技术中，光刻胶（也称为光阻剂）是必需的，光刻技术是通过将光刻胶涂在硅片上，然后使用掩模板和光源进行曝光，再通过显影液去除曝光部分的光刻胶，从而在硅片上形成图案，在这个过程中，光刻胶起到了至关重要的作用，它能够将掩模板上的图案转移到硅片上。
对于某些刻蚀技术，如干刻蚀或湿刻蚀，可能不需要光刻胶，这些刻蚀方法直接通过物理或化学手段在材料表面形成图案，不涉及光刻胶的使用。
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刻蚀机及相关操作属于精密工艺，需要专业的知识和技能，如果您是初学者或对该领域不熟悉，建议在专业人士的指导下进行操作。